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    什么是低溫吸附?

             低溫吸附以電解氫或純度為99.9%的工業氫為原料,采用低溫吸附法,可以制取純度99,999%-99,9999%的高純氫和超高純氫。為使純化裝置連續運行,通常使用兩塔流程(圖2.7),即一塔吸附,另一塔再生,并按設定周期定時切換。吸附劑的選擇原則是既要有較高的雜質吸附量和吸附深度,又要易于再生,鑒于此,一般選用細孔硅膠或活性氧化鋁為吸附劑。吸附操作溫度80-85K,以液氮作冷源。壓力對吸附量的影響與低溫冷凝相似,過高的壓力將使主組分氣氫的吸附量增大,由于共吸附的影響,雜質組分的吸附量反而降低。經驗表明,在2.08-4.85MPa(21-49kg/cm2)范圍內,有除去氫中一氧化碳、氧、氮等雜質的最大能力。吸附劑再生方法根據綜合技經評估確定:若采用常溫低壓純氫逆向吹洗,吹洗耗氣量約為處理氣量的30%-40%,再生時間一般為吸附時間的1;為節原多省再生用氫量,也可以使用經預熱后的低壓純氫反吹,耗氣量的多少視預熱溫度而定,通常可降到10%左右,再生時間亦圖27低溫吸附流程簡圖相應縮短,但再生冷耗增大;也可以采用先卸壓回收死空間氫,再用反吹與抽空結合的方法再生,這樣,既節省了氣量,又不會產生太大冷損。
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